catia自定义阵列怎么用
软件: CATIA
CATIA自定义阵列的使用方法可分为以下步骤，主要通过用户阵列命令实现非规则位置阵列：
一、操作步骤
创建基础实体
通过草图绘制基准平面（如XY平面），完成孔或凸台等基础特征的创建。
例如：绘制圆或点作为阵列位置参考。
定义用户阵列
选择“定义用户阵列”命令（快捷键Alt+3），在弹出的对话框中选择之前创建的草图作为位置模板。
输入阵列对象（如孔、螺纹等），系统会自动生成初始实例。
调整阵列参数
在对话框中设置实例数量、间距等参数，系统会按指定位置生成阵列。
若需接触曲面，可勾选“保留规格”选项，使阵列对象贴合曲面。
分解与优化
完成阵列后，可通过“分解”命令将阵列特征拆分为独立实体，便于后续修改。
若需调整位置，可重新绘制草图并重新定义阵列。
二、注意事项
坐标系与基准 ：阵列位置需基于选定的草图基准面，确保坐标系与设计需求一致。
参数化设计 ：通过调整草图点或间距参数，可快速实现多样化布局。
接触效果 ：接触曲面时需注意勾选“保留规格”选项，避免实体与曲面分离。
三、应用场景
适用于复杂零件设计，如螺纹孔的螺旋排列、不规则孔位布局等场景，提升设计效率。
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