第31期 | Ansys Zemax 成像设计线下培训招生预告

宇熠科技第31期Ansys Zemax成像设计线下培训班招生预告


引言

随着光学技术的不断发展与深入应用，高性能成像设计成为光学工程中的关键一环。Ansys Zemax作为业界领先的光学设计软件，其在复杂光学系统设计、成像质量优化、系统性能分析方面的卓越能力得到了广泛的认可。宇熠科技携手专业团队精心策划，全新推出的第31期Ansys Zemax成像设计线下培训班，旨在为光学工程师提供深入专业、全面实战的培训课程，助力其在光学设计领域的技能提升，加速行业创新与技术突破。




培训特色与亮点

本次培训聚焦于Ansys Zemax成像设计的核心技术，由具备深厚行业背景的宇熠高级光学工程师主讲。培训围绕两大核心模块展开，一是高级成像设计优化与应用方法，包括但不限于序列化设计优化策略、公差分析技巧、热模拟与热效应控制、像质评价方式以及复杂系统中的坐标变换技术，以及高效率的几何转换技巧。通过直接与讲师面对面交流、即时问题解答与深入案例解析，学员将有机会迅速掌握这些高级应用技法，全面提升成像设计的实战能力。

培训信息概览


主题及主办方


主题：Ansys Zemax成像设计


主办方：武汉宇熠科技有限公司


地点：湖北省武汉市


时间：2023年7月12日至14日（共计三天）


培训教材：所有报名学员统一接收专业配套教材


个人装备：需自备笔记本电脑参与培训


认证：培训结束将颁发官方培训证书


培训大纲细节解析

本次培训班期待通过深度理论讲解与实操演练，帮助学员全方位理解Ansys Zemax在优化序列化设计、实现高精度热分析、精度控制下的像质评价、以及复杂坐标系统中的高效转换等方面的应用技巧。课程内容覆盖顺序设计的高效算法、误差敏感度分析、热效应对成像质量的影响控制、成像质量量化评估标准、以及非线性光学系统中的几何构成性调整与实验校验。

培训费用和优惠政策


价格：每名学员费用响应为3980元；


团队优惠：三人及以上组团报名，享受八折优惠；


费用说明：包含培训费、教材、开具发票和培训证书，个人其他费用需自理；


发票事项：统一开票项目为“培训服务费”。


报名与报名流程

通过扫描指定二维码进行报名，报名后，宇熠科技将确认录取并提供后续培训详情与准备指南。

通过宇熠科技携手举办的第31期Ansys Zemax成像设计线下培训班，行业专业人士将获得前所未有的专业发展机会。此培训不仅为参与者提供一个学习、交流、实践的平台，同时也是连接理论与实践、推动光学设计领域技术进步的重要桥梁。我们热忱欢迎广大光学设计领域同仁加入，共同探索光学设计的无限可能，为推动技术创新贡献力量。

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